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磁控濺射鍍膜設備

簡要描述:磁控濺射鍍膜設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體,對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求,可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置,其靶位分布可靈活調整,膜層均勻性;配備不同的靶材,可鍍制出性能更好的復合膜層。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新日期:2024-11-06
  • 訪  問  量:485
  磁控濺射鍍膜設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體,對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求,可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置,其靶位分布可靈活調整,膜層均勻性;配備不同的靶材,可鍍制出性能更好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有附著力強,致密性高的優點,可有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度,滿足了高性能膜層制備的需求。
 
  設備可適用于不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質;可制備TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等金屬化合物膜層;可實現深黑色、爐內金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍、亮銀色等顏色。
 
  該系列設備主要用于電子產品五金件、高檔鐘表、高檔首飾、品牌皮具五金件等。

 


 
  磁控濺射鍍膜設備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術融合一體的,可適應廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜和成膜,使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性等特點??梢藻兘饘倌?,還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。
 
  全SUS304優質不銹鋼機身,隱藏式雙層冷卻水套設計。
 
  合理配備多套全新研制的離子弧源,有效保障弧源濺射的穩定性與均勻性。
 
  采用多路進氣系統,精準控制氣體流量,滿足您多種化合物膜層需求。
 
  結合脈沖偏壓技術,極大提高電粒子能量,從而獲得優秀的膜層結合力和光潔度。
 
  該設備主要廣泛應用于:五金產品、玻璃工藝品、陶瓷工藝品,如衛浴產品、手表鐘表、刀具、模具、水晶玻璃、高爾夫球具、燈具、眼鏡框架、瓷磚地板磚等等。
 
  可加工的材料包括:不銹鋼、銅、鐵、鋅合金、鋁、ABS、玻璃、陶瓷等。
 
  可鍍基材表面狀態:普通電鍍亮面、啞面(半啞、全啞)、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等。
 
  鍍制顏色有:半透明、金、銀、玫瑰金、黑、深黑、綠、藍、紫、七彩等。
 
 

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