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全自動離子濺射儀IS150

簡要描述:全自動離子濺射儀是一種功能強大的電子設備,經常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面,然后通過檢測生成的離子進行分析。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新日期:2024-11-06
  • 訪  問  量:1269
  全自動離子濺射儀產品參數:
 
  1.腔體尺寸:石英玻璃,直徑150mm*高度130mm
 
  2.供電規格:AC220V,200w
 
  3.適用靶材:貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
 
  4.樣品臺可調高度:20~50mm
 
  5.樣品臺尺寸:直徑55mm
 
  6.工作真空度:1~10Pa
 
  7.氣體路數:單路
 
  8.氣體流量:手動調節
 
  9.控制:觸屏控制
 
  10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
 
  11.重量:10KG
 
  12.真空泵:VRD-8
 
  全自動離子濺射儀產品簡介:
 
  1、人性化設計,儀器操作簡單,一鍵鍍膜。
 
  2、儀器小巧,不占空間,適用于實驗室、科研院所等。
 
  3、鍍膜均勻細密,適用于多種靶材。
 
  4、樣品臺可以快速調節,方便取放樣品。
 
  5、儀器性能可靠,設有多重安全保護機制。
全自動離子濺射儀
 
  全自動離子濺射儀是一種功能強大的電子設備,經常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面,然后通過檢測生成的離子進行分析。該設備通常具有以下特點:
 
  1.條件控制:全自動離子濺射儀可以精確地控制離子束的能量、角度、荷載和強度等條件。
 
  2.多種離子源:它可以裝配多種離子源,包括氧化物、碳化物和金屬等。
 
  3.檢測器:該設備通常配備專業檢測器,可以對樣品進行自動分析、控制和處理。
 
  4.系統集成:它可以與其他設備集成,如掃描電鏡和光譜儀,以便進行更全面的表面分析。
 
  全自動離子濺射儀的應用非常廣泛,包括制備陶瓷、薄膜、半導體和生物醫學材料等。此外,它還可以用于表面加工、污染控制和納米加工等領域。

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